技術名稱

雷射裝置及雷射產生方法/ LASER APPARATUS AND LASER GENERATION METHOD

技術摘要

一種雷射裝置及雷射產生方法。雷射裝置包含光學反射及增益單元、光調變單元以及偏振選擇單元。光學反射及增益單元具有增益介質及至少二半反射面且用以產生雷射光束。光調變單元與光學反射及增益單元形成共振腔，且光調變單元用以調整共振腔的相位邊界條件。光調變單元具有多個分區，此些分區係分別對應共振腔內的多個相位邊界，使得在共振腔內的光場往返一次得以至少兩次通過光調變單元。偏振選擇單元設置於光學反射及增益單元與光調變單元之間，其用以調整入射至光調變單元之光場的偏振方向。

現有技術描述、現有技術問題及其缺陷描述

現有技術中，於雷射共振腔動態選擇雷射輸出模態之共振腔設計，雷射腔內的光場週期往返一次只會通過一次光調變單元，因而難以產生具有螺旋相位的近軸雷射光束。故而無法順利經由雷射腔中的光調變單元來控制近軸雷射光束的拓撲電荷的階數或螺旋相位的左右旋。因此，許多具有螺旋的特性的複合雷射模態皆難以利用現有技術來產生。

本技術發明目的、所欲解決之問題、能提昇的功效

本技術使雷射共振腔內的光場於雷射腔中週期往返一次通過光調變單元的次數從一次增為至少兩次，而可在雷射腔內的相位調制中加入螺旋相位的調制。故而可以順利利用雷射腔中的光調變單元來控制產生之雷射光束的拓撲電荷的階數或螺旋相位的左右旋。或是產生任意指定複合的雷射模態。透過本技術之雷射裝置及方法可於雷射腔中動態選擇產生任一模態的雷射光束，如：厄米-高斯（Hermite-Gaussian）光束、拉葛朗-高斯（Laguerre-Gaussian）光束、贗無繞射光束…等。或是任意兩或多個雷射模態的疊加雷射輸出。

適用產業類別

雷射製造商或雷射應用相關產業

聯絡窗口

單位名稱：技轉育成中心

聯絡人： 陳俊邦

電話：06-2360524轉 10

電子郵件：pangchun@mail.ncku.edu.tw