技術名稱

一種用於高溫太陽熱能發電的選擇性吸收薄膜及其製造方法

技術摘要

本研究主要目的為使用反應式磁控濺鍍法，製備一系列不同性質的TiNxOy薄膜，在使用單一金屬鈦靶材下，透過不同的製程參數我們可以得到元素組成比、薄膜結晶度截然不同的TiNxOy膜層，以適當的條件堆疊三層膜結構後，搭配SiO2表面抗反射層的添加，以期能藉由此多層選擇性吸收塗層達到符合經濟效益的高太陽能吸收率與低熱放射率，並希望在高溫(400~800°C)的情況下能繼續維持其高效能。因此我們也對膜層進行不同溫度條件的高溫熱處理，探討其結構與性能受溫度影響的程度。

現有技術描述

1. 瓷金塗層

2. 干涉堆疊塗層

現有技術問題及其缺陷描述

1. 效能(吸收率/放射率)不夠高
2. 無法在高溫下穩定運作
3. 成本高

本技術發明目的、所欲解決之問題、能提昇的功效

1. 提供太陽能選擇性吸收膜另一種膜層組成與結構
2. 提昇其效能
3. 提昇其高溫穩定性

適用產業類別

1. 發電
2. 工業
3. 鍍膜

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